高純度氣體管道是高純度氣體供氣系統的重要組成部分,是將符合要求的高純度氣體送至用氣點保持質量合格的關鍵,包括系統設計、管件及配件選擇、施工安裝及試驗等。半導體技術是 20 半導體制造技術是世紀以來最偉大、最具活力的技術,它貫穿于高純氣體的提供,原料硅的提煉,晶圓的生產,IC 包裝和測試的全過程。體現當今世界高科技水平的微電子商品,正以高性能、低成本為目標,高速向高密度、高集成發展,對氣體雜質含量的限制更加嚴格。相應的高純度、高清潔氣體及其管道的輸配系統變得非常重要和重要。亞微米級(低于1um) )集成電路高純氣體雜質的控制水平為0.1xl0-6,詳見下表:

例如某集成電路廠房生產線寬 0.18um 、直徑 200mm 芯片,各種雜質的高純氣體控制水平 10xl0-9,其所用氣體見下表:
預計很快就會達到納米線距離,氣體雜質 H20 、O2 、CO、CO 2、TH C 等級要求將低于10-12級(每一類) )。如此高純度的氣體由管道輸送,能否將高純度的氣體輸送到用氣點,保持質量合格的關鍵在于供氣系統設計合理,管件及附件選擇正確,施工安裝正確,實驗檢測合格。